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4″高真空RTP爐OTF-1200X-4-RTP-HV

簡要描述:4″高真空RTP爐OTF-1200X-4-RTP-HV 是一款精巧型快速熱處理管式爐,配有4″石英管及高真空系統(機械泵+分子泵), 是專為半導體或太陽能電池基片(Z大3″)的退火而設計。本機采用10KW紅外燈管加熱,Z快升溫速度為50℃/s,設有30 段溫度控制,精度為±1℃。此外,通過RS485口和控制軟件可在計算機上實現實時控制和溫度曲線顯示。

  • 產品型號:OTF-1200X-4-RTP-HV
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2016-04-12
  • 訪  問  量:2281

詳細介紹

 

產品型號

  4高真空RTPOTF-1200X-4-RTP-HV

主要特點

  1、石英樣品架固定在滑動法蘭上,使樣品裝載更加容易。

  2樣品架上放置76mmAlN片,承載需要退火的樣品。AIN具有很高的熱導率,可使樣品放置的區域有很            好的溫度均勻性(± 5℃)。

  3內插式熱偶保證了溫度的準確性。

  4、采用PID自動溫度控制,30段程序,并設有過熱和斷偶保護功能。

  5、已通過CE認證。

技術參數

  1、源:爐體單相208-240V,50/60Hz,10KW;高真空系統AC110V/220V任意切換,50/60Hz110W

  2、爐體結構:雙層莫來石鋼構

  3、石英管:外徑Φ110mm,內徑Φ103mm,長380mm

  4、樣品架:76mm

  5、加熱元件:8根紅外燈管,燈絲長200mm,絲圈Φ10mm,燈長300mm

  6加熱區102mm×305mm,均勻性±5

  7、熱偶:K型熱偶

  8、溫度:zui高溫度1100℃,額定溫度1000℃,在1000-1100℃下保溫時間不得超過600s

  9、控溫精度:±0.5

  10、zui快升溫速度:RT-800℃內50/s,800-1000℃內10/s

  11、高真空系統氣動時間:2min

  12、真空度:6.3×10-5mbar(在40min中)

  13、真空法蘭:KF-D25,配有兩個高溫O型圈密封

  14、流量計:16-160ml/min

  15、前級泵流速:在10mbar狀態下3.8L/min,50Hz;4.4L/min60Hz

產品規格

  爐體:尺寸760mm×330mm×530mm,重量50kg

  高真空系統:尺寸:600mm×600mm×700mm,重量18kg

 

 

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